產(chǎn)品時(shí)間：2015-09-24
氫氣發(fā)生器由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調(diào)節(jié)閥、開關(guān)電源等部件組成。只電解純水即可產(chǎn)氫。通電后，電解池陰極產(chǎn)氫氣，陽(yáng)極產(chǎn)氧氣，氫氣進(jìn)入氫/水分離器。氧氣排入大氣。氫/水分離器將氫氣和水分離。氫氣進(jìn)入干燥器除濕后，經(jīng)穩(wěn)壓閥、調(diào)節(jié)閥調(diào)整到額定壓力（0.02～0.45Mpa可調(diào)）由出口輸出。
名 稱：氫氣發(fā)生器
型 號(hào)：DH-300
品 牌：中惠普
產(chǎn) 地：北京
氫氣發(fā)生器結(jié)構(gòu)：
氫氣發(fā)生器由電解池、純水箱、氫/水分離器、收集器、干燥器、傳感器、壓力調(diào)節(jié)閥、開關(guān)電源等部件組成。只電解純水即可產(chǎn)氫。通電后，電解池陰極產(chǎn)氫氣，陽(yáng)極產(chǎn)氧氣，氫氣進(jìn)入氫/水分離器。氧氣排入大氣。氫/水分離器將氫氣和水分離。氫氣進(jìn)入干燥器除濕后，經(jīng)穩(wěn)壓閥、調(diào)節(jié)閥調(diào)整到額定壓力（0.02～0.45Mpa可調(diào)）由出口輸出。電解池的產(chǎn)氫壓力由傳感器控制在0.45Mpa左右，當(dāng)壓力達(dá)到設(shè)定值時(shí)，電解池電源供應(yīng)切斷；壓力下降，低于設(shè)定值時(shí)電源恢復(fù)供電。
主要技術(shù)參數(shù)：
1. 氫氣純度：99.99999%
2. 氫氣流量：0-300ml/min
3. 輸出壓力：0-0.5Mpa
4. 壓力穩(wěn)定性：< 0.0001MPa
5. 供電電源：220V±10%, 50Hz
6. 消耗功率：300W
7. 外型尺寸：420×200×350mm
8. 凈重：約15Kg
儀器特點(diǎn)：
1、采用鈀合金過濾膜，可確保氫氣純度持續(xù)達(dá)到99.99999%；
2、對(duì)原料水要求不高，只需普通蒸餾水即可；
3、不需要干燥劑（如：變色硅膠、分子篩等）；
4、儀器內(nèi)部采用硅橡膠圈（含硫量低），有效提高氣體質(zhì)量，保證色譜基線平穩(wěn)；
5、免維護(hù)；
6、壓力及流量均采用一體化的控制；
7、全自動(dòng)控制，設(shè)有水位、超壓等多種安全裝置；
8、可滿足高精度氣相色譜儀、極譜儀、半導(dǎo)體外延、核物理實(shí)驗(yàn)等對(duì)超高純度氫氣的需求。
同系列產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)：
型號(hào) | 流量 | 儀器特點(diǎn) |
DH-300 | 0-300ml/min | 全自動(dòng)控制，不存儲(chǔ)氫氣，有水位、超壓的安全裝置，純度99.99999% |
DH-500 | 0-500ml/min | |
TH-300 | 0-300ml/min | 采用*的離子膜制氫技術(shù)，無(wú)需加堿，直接電解純水（去離子水、二次蒸餾水），優(yōu)點(diǎn)：不污染色譜的任何部件。純度：優(yōu)于99.999%，壓力：0-0.4MPa |
TH-500 | 0-500ml/min | |
TH-1000 | 0-1000ml/min | |
SPH-200 | 0-200ml/min | 體積小，重量輕，單級(jí)過濾，壓力0.3MPa，自動(dòng)防返堿，純度99.999% |
SPH-300A | 0-300ml/min | 單級(jí)不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動(dòng)防返堿，純度99.999% |
SPH-300 | 0-300ml/min | 兩級(jí)不銹鋼過濾器，內(nèi)有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩檔可調(diào)，自動(dòng)防返堿，純度99.999% |
SPH-500A | 0-500ml/min | 單級(jí)不銹鋼過濾器，壓力0.4MPa，自動(dòng)防返堿，純度99.999% |
SPH-500 | 0-500ml/min | 兩級(jí)不銹鋼過濾器，內(nèi)有微量氧脫除劑（不需活化），純度更高，壓力0-0.4MPa，0-0.6MPa兩擋可調(diào)，自動(dòng)防返堿，純度99.999% |
GCD-1000 | 0-1000ml/min | 大流量，可同時(shí)帶多臺(tái)色譜，自動(dòng)防返堿，純度99.999% |
GCD-3000 | 0-3000ml/min | 安全可靠，自動(dòng)流量跟蹤，用于中心實(shí)驗(yàn)室集中供氫，可用于石化、半導(dǎo)體等行業(yè) |
GCD-6000 | 0-6000ml/min | 安全可靠，自動(dòng)流量跟蹤，用于中心實(shí)驗(yàn)室集中供氫，可用于石化、半導(dǎo)體等行業(yè) |
GCD-9000 | 0-9000ml/min | 安全可靠，自動(dòng)流量跟蹤，用于中心實(shí)驗(yàn)室集中供氫，可用于石化、半導(dǎo)體等行業(yè) |
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